年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Stikstof Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体、⽚显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刺⽓当刺⽓当清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼎睰兏热应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和厀艽剂和掂

Stikstoftrifluoried, chemiese formule NF3, is 'n sterk oksideermiddel. As 'n belangrike industriële spesiale gas het dit 'n wye reeks toepassings.
In die mikro-elektroniese industrie is stikstoftrifluoried 'n uitstekende plasma-etsgas; In die halfgeleierskyfie, platpaneelvertoning, optiese vesel, fotovoltaïese selle en ander vervaardigingsvelde word stikstoftrifluoried hoofsaaklik as plasma-etsgas en reaksieholte-skoonmaakmiddel gebruik.
Dit kan ook in hoë-energie chemiese lasers gebruik word om die toepassing daarvan te bereik deur met waterstof te reageer om 'n groot hoeveelheid hitte in 'n oomblik uit te straal. Stikstoftrifluoried word ook gebruik as 'n hoë-energie brandstof en as 'n oksideermiddel en dryfmiddel in vuurpyllanserings.